EUV光刻机时代，联盟裂缝渐现！

大家都知道，目前最大的光刻设备生产商，就是荷兰 ASML公司，他们控制着整个世界的90%以上的光刻设备，以及几乎100%的极紫外光刻设备，而唯一能够提供这种设备的，就只有他们了。

但是，从外表来看， ASML是一个荷兰企业，事实上，它被美国所掌控。ASML公司是美国人的意愿的结果。ASML能有今日，离不开美国的扶持。ASML能走到现在，离不开美国的扶持。

说起来，极紫外光刻是美国最先研发出来的，然后被 ASML公司收购，这才有了 ASML的 EUV光刻机。

所以， ASML无疑是将美国与欧洲晶片同盟，乃至超越美国与欧洲之间的桥梁，也是连结日本与韩国，中国与台湾的半导体产业之间的桥梁，而 EUV光刻机则是不可或缺的一环。

有了 EUV光刻机，美国掌控了 ASML，等于是掌控了整个世界的半导体工业，如果不听从美国的命令，美国就会停止 ASML的 EUV光刻机，这让他们瞬间怂了。

英特尔（Intel Corp.)，台积电（TSMC）以及美国三星（Samsung）等公司纷纷出资入股 ASML，以此来支撑 ASML。

然而，就目前的形势看来，美欧的芯片同盟正在逐渐破裂，美国的芯片整合龙头企业美国美光（Amplifier）也开始退出极紫外光刻工艺。

有消息称，美光近期公布了采用奈米制程制造 DRAM的细节，并宣称美光将会以佳能的 NIL装置为第一批制造 DRAM晶片，而抛弃极紫外光刻制程。

为何美光公司采用 NIL奈米打印装置？由于 NIL装置的应用，其费用将会大幅度的减少。

佳能此前曾表示， NIL装置的能源消耗只相当于 EUV光刻机的10%，而利用 NIL装置建造一条全产业链所需的费用约为4 0%。

但是，它的缺陷在于生产率没有极紫外光刻那么高，并且要获得和一部同等产能的 EUV光刻机一样的效应，还必须使用多套 NIL设备。

SK海力士此前采用 NIL光刻机制造记忆体，若美光也采用 NIL装置，则会逐渐抛弃 EUV，这一点已经很清楚，全世界的半导体工业都将与 EUV光刻机绑定，面临技术难关， EUV已经不是只能靠 EUV制造，而是有了替代品。

而美国这个掌握着整个产业链的国家，也将迎来一场巨大的危机，一旦 EUV光刻机的垄断被打破，整个世界的标准都会被重新定义，那么美国在半导体领域的霸主之位，很可能就会变得岌岌可危。