外媒盛赞：5nm迈向2nm时代，光刻机破局者即将崛起！

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引言：今年5 nm、2026年2 nm，极紫外光刻突破，国外媒体：终于可以量产了。

光刻技术是芯片制造中的一项重要技术。光刻技术已从最初的微米制程发展到目前的奈米制程，已成为晶片制造的一项重要技术。然而，光刻工艺的研究开发与生产却一直是一个巨大的挑战。光刻技术因其技术门槛高，研发强度大，供应链复杂等特点，已经成为目前芯片制造领域最为昂贵的装备之一。在很长一段时间内，世界上仅有4家厂商具备制造光刻机的能力，其中荷兰 ASML （ASML）垄断了7 nm以下芯片的极紫外光刻机市场。

不过，随着科技的不断发展与创新，这一模式似乎也在悄然改变。佳能，日本光刻机生产商，最近发布了一则振奋人心的好消息：其新一代半导体纳米压印设备FPA-1200NZ2C将于今年正式投产。佳能寄希望于该设备能够在突破极紫外光刻技术的垄断方面取得重大突破。

纳米压印技术作为一项新兴的芯片制造技术，经过近几年各大生产厂家及科研机构的不懈努力，已经取得了长足的进步。相对于传统方法，纳米压印技术具有成本低、分辨率高等优点。佳能FPA-1200NZ2C纳米压印技术可以实现5 nm以下的尺寸，这无疑给现有极紫外光刻技术带来了很大挑战。

其中，FPA-1200NZ2C纳米压印设备的制造成本约为极紫外光刻机的10%，功耗仅为极紫外光刻的10%。因此，利用纳米压印技术可大幅降低芯片制造成本，降低能源消耗，推动芯片工业的可持续发展。

另外，佳能公司也透露，纳米压印机还会有进一步的提升。该装置有望在2026年生产出2 nm芯片，完全绕过极紫外光刻项目。毫无疑问，这对整个芯片制造业都是一个巨大的冲击。如果佳能能按计划实现这个目标，它将改变当前芯片生产模式。外国媒体：终于可以量产了。

行业专家普遍对这一重大进展持乐观态度。他们相信佳能公司在纳米压印技术上的深厚积累以及创新精神，将会在未来数年成为芯片制造设备中的一股新生力量。同时，纳米压印技术的广泛应用，也将推动芯片制造技术向更高效率和更绿色的方向发展。

尽管前途一片光明，但是佳能仍然面临着很多挑战。首先，虽然纳米压印技术具有很多理论上的优势，但是要将其应用到实际应用中，还有很多技术难题亟待解决。此外，佳能要想在芯片制造领域立于不败之地，也必须在产品品质及售后服务上下功夫。

但是佳能公司对未来仍有信心。公司表示，将继续在纳米压印技术上投入研发，持续改善设备性能及稳定性，以满足市场需求。与此同时，佳能也会与世界各地的主要生产厂家紧密合作，共同促进芯片制造技术的进步和发展。

佳能FPA-1200NZ2C纳米压印设备的批量生产及后续产品的升级换代，无疑将为整个晶片制造业带来新的生机与机会。我们有理由相信，纳米压印技术将会和超紫外光刻技术一起，成为芯片制造领域的一股重要力量，推动整个产业的发展。佳能作为行业的先行者与开拓者，必将继续引领行业的发展。