芯片，一个只有指甲盖大小的电子产品组件，为何会将华为这个让老美进入国家紧急状态的科技巨头发展陷入困境？国内企业为何不能帮助华为渡过芯片危机？真的比原子弹还难造吗？其实，芯片真的比原子弹难造！

目前市面上流动的芯片是硅基芯片，它的制作非常繁杂，首先要从沙子中提取出纯度高达99.999％的单晶硅，然后在进行集成电路的设计、光刻、蚀刻、等离子注入以及封测等复杂的工艺后，方能应用在电子产品上。

芯片制作不但需要EDA这种自动化非常高的工业软件，还需要大量的高尖端设备和化学材料，如光刻机、蚀刻机、光刻胶等。尤其是光刻机，直接决定了芯片的制程工艺、晶体管的集成数量。如当前主流的5nm智能手机芯片，必须要使用技术更先进的EUV光刻机才行。

华为芯片被断供后，国内呼吁提升实现高端芯片国产化的呼声越来越高，而国内企业却苦于缺少EUV光刻机，无法实现高端芯片的量产。那么，我们为何不造EUV光刻机呢？不是我们不想造，而是国内技术水平达不到！

两年前，荷兰ASML公司EUV光刻机总工程师曾在接受媒体采访时表示：即便是中国拿到了图纸，也造不出来EUV光刻机。

中国院士吴汉明也曾表示，光刻机是全人类智慧的结晶，很难凭借一个国家的力量制造出来。

据知情人士透露，ASML公司虽然是世界上唯一能够制造EUV光刻机的企业，但是它制造EUV光刻机的元器件和核心技术大部分依赖进口，如物镜来自德国、轴承来自瑞典、阀门来自瑞典、光源来自美国等35个国家的5000多家企业。

中国人真的造不出EUV光刻机？中科院偏不信这个邪，发誓要在短时间内攻克EUV光刻技术，制造出国产EUV光刻机！

2020年9月，中科院院长白春礼在中科院的“率先行动”大会上明确表示，要集中全院优势科研力量，科研人员要签署军令状，加大科研攻关力度，彻底解决光刻机等被卡脖子的问题。

随着中科院的入局，“中国芯”进入了一个超高速发展期：中科院高能所即将完成国内首台高能同步辐射光源设备，中科院旗下子公司中科科美成功制造出制造光刻机物镜核心设备，朱煜教授帮助华卓精科掌握双工件台技术，并交付上海微电子使用。

据最新消息显示，上海微电子自研的28nm光刻机已经开始量产，将于今年年底交付下游企业。据悉，上海微电子制造的28nm光刻机，可通过多次曝光技术，实现7nm芯片的量产。

对于“中国芯”超音速的发展速度，英媒发出感慨：美国的极限施压，已经让中国走上了一条自主的研发道路，且芯片已然崛起，美国现在即便是后悔也晚了，现在最需要做的事，就是恢复美企与中企的合作！

如果“中国芯”能够保持着这个速度发展下去的话，用不了几年，我们就能实现芯片的自给自足，所以，我们现在没必要再向美企讨要芯片，并要记住这个耻辱，待“中国芯”彻底崛起之时，为了人类文明进步不再受到阻碍，要发起强有力的反击！