上海御微半导体申请晶圆缺陷检测专利,提高晶圆表面缺陷检测的准确性和效率

金融界 2025-04-09 19:28:05

金融界2025年4月9日消息,国家知识产权局信息显示,上海御微半导体技术有限公司申请一项名为“晶圆缺陷检测方法、装置、设备、介质及产品”的专利,公开号CN119780121A,申请日期为2024年12月。

专利摘要显示,本公开实施例公开了一种晶圆缺陷检测方法、装置、设备、介质及产品,包括:获取待检测晶圆图像;所述待检测晶圆图像中包括纹理和缺陷;根据预设纹理识别算法对所述待检测晶圆图像的纹理进行识别,得到纹理识别结果;根据所述纹理识别结果确定所述缺陷的检测结果。本技术方案通过根据预设纹理识别算法对待检测晶圆图像的纹理进行识别,进而确定晶圆缺陷检测结果,消除纹理对晶圆缺陷识别的影响,提高了晶圆表面晶圆缺陷检测的准确性和识别效率,提升产品的良率。

天眼查资料显示,上海御微半导体技术有限公司,成立于2019年,位于上海市,是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本1200万人民币。通过天眼查大数据分析,上海御微半导体技术有限公司参与招投标项目32次,财产线索方面有商标信息45条,专利信息99条,此外企业还拥有行政许可5个。

本文源自:金融界

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