现在有一种观点，“光刻机当用，不要过度吹捧！” 我们需要明白，现在要想大批量制造芯片，光刻机仍然是关键的制造设备。虽然电子束光刻机也能够达到激光光刻机的效果，但是无法实现大批量的生产。 这说明为了确保国内芯片的制造，我们仍需要光刻机。 现在我们的国产光刻机有进展，但是与ASML的差距仍然很大。虽然国内在EUV光刻机的关键组件上有所突破，但是距离制造完整的EUV光刻机，我们还有很长的路要走，我们需要继续加大力度去研发。 目前，关于国产光刻机的报道，有过度吹捧的现象。我们需要保持理性的思维，不要被这些信息所误导。 现在国产光刻机主要应用在90nm、65nm、28nm芯片的制造，在一些芯片的封装、LED等面板的应用中，可以用国产设备来替代。但是想制造更加先进的芯片，仍然需要ASML的DUV光刻机去实现。 要想实现先进芯片的大规模生产，除了要考虑芯片制造设备以外，还需要考虑的良品率，这与制造封装工艺有关，我们在这方面与台积电等大厂，还有很大的差距。 我们应当理性看待国产光刻机的发展，“光刻机当用，不要过度吹捧！”最具现实意义！
