关于中国目前能量产几纳米芯片,各方观点不一。芯片分析师认为,中国芯片技术超越了7nm,但无法突破5nm。三年前“7nm量产”新闻引发热议,如今所谓N+3工艺顶多算6nm加强版,本质还是基于DUV光刻机。而台积电、三星用EUV已做到5nm甚至3nm。不过,“光刻机之父”林本坚称中国现有设备能造出5nm芯片。林本坚在光刻领域造诣深厚,浸没式技术就是他的成果。所以中国芯片量产水平或许还有潜力可挖,未来值得期待。
俄罗斯为什么不担心芯片制造和光刻机的问题?就这么说吧,除了中国,其他国家基本都不
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如来神掌
小编狐假虎威技巧太拙略