刚刚看到，荷兰阿斯麦公司（ASML）发布声明表示，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统。不过，为什么不将所有的光刻机一禁了之呢？因为在中低端光刻机上，中国有自己的产能。对于阿斯麦来说，禁止这些中低端光刻机不仅不能对中国“卡脖子”，反而会将市场拱手相让。不过，做人做事都不能过于精明，既然高端光刻机不卖给中国，也就别总惦记中国的中低端光刻机市场了。好处别都被你占了。

网友:好消息，DUV至少还能满足7奈米，最多就是良品率低点成本高点，我们现在连DUV产能都不够…..中微的28奈米去年说交付，到现在还是没消息…网友:你的判断误差较大。中国自主产权的光刻机是90纳米制程的。要生产14 28甚至48纳米的芯片，还要从ASML购买光刻机。美国不控制28纳米光刻机的原因是制程落后，很难军用。

网友:上海微电子官宣的还只有90nm，任重道远。SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。

网友:那中国可不可以以同样的理由出于国家安全考虑，禁止荷兰的中低端光刻机进入中国呢？毕竟，我没有的你不卖给我，我自己有的不要你的，没毛病。网友:中国要独占中低端芯片市场，步步为营，逐步抢占国际中高端市场，逼迫那些制裁中国芯片的企业只能走高端市场，这样他们就因失去了中低端市场份额，同样日子不好过。毕竟中国得不到高端芯片，高端芯片的使用率也不高。