光刻三剑客：光刻机+光刻胶+光掩膜

光刻工艺是指集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。光刻工艺可以理解为使用光刻技术进行某一类加工的一种工艺；而光刻技术是则指在光照作用下，借助光致抗蚀剂（即：光刻胶）将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。典型的光刻工艺流程包括衬底制备、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、腐蚀、去胶等。在光刻中主要使用工具及材料为光掩膜、光刻机及光刻胶。

光刻机：通过光源将光掩膜上图形投射于硅片

光刻机：类似纳米级打印机，通过光源将光掩膜上图形母版投射在硅片上。工作原理：利用光刻机发出的光通过具有图形的光置对涂有光刻胶的硅片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光置上得图形复印到硅片上，从而使硅片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻机刻的不是照片，是电路图和其他电子元件。

光刻机的发展前景是积极的，‌尽管面临挑战，‌但国内外都有显著的进展和突破，‌预示着光刻机国产化率的提升有望在未来实现。‌

国内进展：‌近年来，‌中国在光刻机领域取得了显著进展。‌上海微电子正在研发28纳米浸没式光刻机，‌预计将交付国产第一台SSA/800-10W光刻机设备。‌华为的一项新专利在EUV光刻机核心技术上取得了突破。‌此外，‌华中科技大学和哈尔滨工业大学在相关技术上也有所突破。‌中国可量产90纳米以上的光刻机，‌虽然与国际先进水平有差距，‌但能满足国内市场部分需要，‌显示出中国在光刻机领域的技术积累和人才储备。‌

国际趋势：‌全球光刻机市场可能迎来深刻变革，‌由美西方主导的半导体产业体系可能崩塌，‌为中国芯提供了难得的机遇。‌佳能的纳米印压光刻机以其低成本和高效率的生产能力，‌预示着市场可能重新洗牌。‌

挑战与机遇：‌虽然光刻机技术的发展面临诸多挑战，‌包括高难度的技术研发和激烈的市场竞争，‌但国内外都有突破性的进展。‌例如，‌上海微电子在光刻领域的布局较为完善，‌覆盖多个领域，‌且在后道封装领域占据了中国国内80%，‌全球40%的市场份额3。‌此外，‌国内外都有持续的技术创新和研发投入，‌为中国科技的崛起添砖加瓦。‌

综上所述，‌光刻机的发展前景虽然充满挑战，‌但随着技术的不断进步和市场需求的驱动，‌国内外都在积极推进光刻机的研发和生产，‌预示着光刻机国产化率的提升有望在未来实现。

‌广信材料 （300537）

公司亮点：拥有多种专用油墨、专用涂料等产品的核心配方

概念题材：光刻胶+PCB+新材料+华为

PCB光刻胶作为公司主营产品，公司微电子材料事业部所研发的TP、TN/STN-LCD光刻胶等部分FPD光刻胶产品按照订单情况正常生产和销售中，目正进一步推进市场开拓等工作。

波长光电（301421）

公司亮点：国家级专精特新“小巨人”，主营激光光学产品、红外光学产品

概念题材：光刻机+光刻胶+芯片+机器人

在半导体应用领域，公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力。公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套，并已交付多套系统用于接近式掩膜芯片光刻工序。

双乐股份（301036）

公司亮点：国内主要颜料生产厂家之一

概念题材：公司用于面板光刻胶的颜料的产线已经投资建设完成，已经开始实现量产！

6月虽然行情不怎么样，但是在6月份布局的逸豪新材（301176）粉丝收获96%+的涨幅18w的收获机会，金溢科技（002869）67%的机会，包括最近的东山精密（002384）的涨幅37%都已经回了一大波血了，包括一些其他的这里就不一一列举了!

最后一家，也是最看好的！

1、公司亮点：国内较早从事精密洗净服务、较早实现半导体PVD洗净工艺量产服务的企业，公司已研发并量产半导体14nm制程洗净工艺、储备的半导体7nm部品清洗工艺已较为成熟。公司为光刻环节的溶胶显影、涂胶等设备提供精密洗净服务。

2、目前的位置是属于历史底部的位置，股价严重超跌调整后，现在已经有止跌企稳的状态，近期也有涨停板出现的票，资金进场明显！

3、光刻机+中芯国际+芯片多概念股，现在已经止跌企稳，随时有可能启动主升浪大涨拉升的节奏！