从2018年开始，美国就已经谋划出了一系列对我国半导体制造产业链的打压计划，其中主要包括了三个环节，其一就是限制ARM公司在芯片指令集架构方面的授权，意图阻断我国芯片指令集架构的获取通道。其二则是限制EDA软件巨头对我国芯片设计企业的出口，卡死芯片设计路线，意图让我国无法设计出高端芯片。其三就是阻碍荷兰对我国出口EUV光刻机，试图封死我国在10nm以下芯片的发展路线。

而面对着这种困境，我国也是在不断加速破局，芯片指令集架构方面我国分化出了两条路线，一条就是龙芯中科携手中科院打造的100%自主研发的LoongArch架构，并为其构建软硬件生态。另一条就是大力推动开源指令集架构RISC-V架构的生态发展和国际巨头接轨。

现如今这两条路都已经走通，并且越来越好，未来我国将不用担心没有芯片指令集架构可用的情况出现。

另外，在芯片设计软件方面，华为已经攻克了14nm以上的EDA软件，让我们在28nm制程上有了解决方案，并且国内的华大九天也在向着10nm以下的EDA软件布局，所以综合来看，我国在芯片设计层面上已经算是完成了破局。

而目前在芯片制造关键上，我国的中科院正在加码国产EUV光刻机的破局，在EUV光源方面已经取得了成绩，双工作台也在稳步推进，但是就在这个时候，日本方面公布最新消息显示，其将在7月23日对我国尖端半导体实施出口限制，而这一波的限制主要分为四个方面，分别是成膜设备、曝光设备、蚀刻设备和清洗设备。

这操作下来似乎是想要让我国的光刻机“变成废铁”，因为，成膜设备和曝光设备是进行光刻的关键设备，没有其参与，哪怕拥有EUV光刻机也是白瞎，根本无法进行正常的芯片光刻，至于清洗设备也是不可或缺。

所以说，日本这突然的操作可以说是下了狠手的，并且是非常的狠。

有多狠呢？要知道即便是美国对于我国芯片产业链的限制也主要只是集中在高端部分，就拿EDA软件来说，美国现阶段限制的主要是5nm以下的EDA软件的使用，并且是对部分企业限制，是可以得到后期授权继续使用的。

再比如光刻机方面，美国最开始限制的是EUV光刻机，后来才慢慢囊括了DUV光刻机，但是，即便是这样依旧留有余地。

可是到了日本这，上来直接就是准备把整个制造环节的关键节点全部都锁死，因此，外媒方面也是给出评论表示，日本这做的比美国都要绝。

要知道，日本的芯片巨头们，大部分的市场份额都是集中在中国的，根据数据显示，在2021年日本半导体设备总出口金额为305亿美元，其中118亿美元都是面向我国市场，占比接近40%，所以对我国企业进行限制，那么不光会影响我国的芯片制造，同时对于日本企业来说也是巨大损失。

并且，日本的限制正在倒逼我国企业加速完成芯片制造设备的国产化，就比如说半导体用光刻胶，现如今南大光电已经完成了国产化应用突破，弥补了空白，类似的相关领域，我国也在加速突破。

所以说，日本的限制不可否认会给我国带来痛苦，但是这只会是阵痛，当阵痛过去，日本将永远的失去我国半导体设备供应市场，同时将迎来一大批的来自于中国市场的竞争者，届时不知道日本还能不能扛得住，希望到时候日本不要哭。

而我们对于日本也是给出过警告，如果日本一意孤行，那么胜利者只会有美国，日本得不到半点好处，至于听不听就看日本自己怎么选择了。