随着芯片制程工艺的更新迭代，世界芯片行业已进入5nm时代，且明年即将实现3nm芯片的量产。然而，在当今所有的芯片制造企业中，只有台积电及三星掌握了7nm及以下芯片制程工艺。

我国进入半导体行业较晚，基础工业水平与西方发达国家存在着一定的差距，尽管过年气企业掌握了先进的芯片制程工艺，由于光刻机的缺失，至今仅能实现28nm纯国产芯片的量产。以至于老美修改半导体行业规则后，国内部分企业的手机、PC、智能汽车业务的发展受到了很大的影响。

所以，要想国内企业的发展不再受制于人，我们就必须实现技术独立，芯片国产化势在必行。

然而，让所有人没想到的是，“中国芯”崛起的速度非常快，即将实现7nm芯片的量产。

近日，据媒体报道，南大光电已经承担的国家重点项目“光刻胶项目”已经通过专家组验收，且其研制的ArF光刻胶可以用于14—7nm芯片制造的生产，年产量高达25吨。

当然了，要想实现7nm国产芯片的量产，仅有光刻胶是不行的，也需要先进的芯片制程工艺和光刻机作为支撑。所幸的是，我们也已经取得了重大突破。

中芯国际梁孟松曾表示，自研的“N+1”芯片制造技术已经成熟，已经进入7nm芯片的验证、试产阶段。其实，自进入今年以来，网上一直流传着中芯国际将要在4月份量产7nm芯片的消息，且有多位业内人士验证了这一消息，但不知出于什么原因，至今仍未有媒体报道中芯国际量产7nm芯片的新闻，但不可否认的是，中芯国际已经具备了量产7nm芯片的技术。

除此之外，国产光刻机也传来了好消息，国内唯一光刻机制造商上海微电子已经实现了28nm光刻机的量产，并将将于年底交付下游企业。

据知情人士透露，上海微电子制造的28nm光刻机经过多重曝光工艺，即可实现7nm芯片的量产。中芯国际曾与华为联手，通过28nm光刻机制造出了14nm的麒麟710A芯片，足以证明这条消息的准确性。

当然了，利用28nm光刻机制造7nm芯片，对技术的要求会更高，而且制造成本也会增加不少，但不可否认的是，一旦在28nm光刻机上制造出了7nm的芯片，足可以惊动整个科技界。

随着国产芯片三大核心技术的突破，7nm芯片的即将量产，在海外科技界引起了很大的震动，不少国外媒体纷纷发文表示：是中国的科学家不睡觉？还是中国科学家太聪明？居然能够在这么短的是时间内即将实现7nm芯片的量产！

其实，并不是中国科学家不睡觉，而是中国科学家是世界上最有智慧的一群人，且老美对我国的芯片封锁，沉底激起了我国科学家的斗志，唤起了我们科学家的超能力。

我国流传着这么一句话：善有善报，恶有恶报，不是不报，时辰未到，时辰一到，统统报销！笔者坚信，中国芯崛起之时，就是美企败走之日！