外媒报道，美国政府投资价值约10亿美元研究中心，以开发下一代极紫外光（EUV）制程技术，挑战荷兰产业领导者艾司摩尔 (ASML)。

美国政府支助价值8.25亿美元的EUV设备将设于Albany NanoTech Complex，成为首个“为美国芯片而生”（CHIPS for America）计划的R&D旗舰设施，并将获得额外用户资金。半导体设备商应材 (Applied Materials) 预计将成为主要参与者之一，以直接与ASML竞争。面对竞争，ASML于2024年6月与比利时imec合作，开设类似实验室。

EUV设备将专注开发最先进的高数值孔径EUV研发。美国表示，EUV曝光技术已成为完成7纳米以下晶体管大量生产的关键技术，包括台积电等主要芯片制造商都采取相关技术。因此，美国政府表示，获得EUV曝光技术研发的机会，对于延续美国的半导体技术领先地位、缩短原型开发时间和成本，以及创建和维持半导体人才生态系统非常重要。

美国国家半导体技术中心 (NTSC) 及母组织Natcast成员将于2025年获得标准EUV曝光设备的使用权，并于2026年获得High-NA EUV曝光机的使用权。从2024年开始，ASML已经开始向英特尔和其他芯片制造商提供High-NA EUV曝光机。美国商务部长Gina Raimondo表示，通过这个旗舰设施，CHIPS for America计划为NSTC提供了先进研究和工具的机会，并启动代表着确保美国在创新和半导体研发方面保持全球领导地位的重要里程碑。

Albany NanoTech Complex现已成为由IBM转型而出的非营利组织NY Creates一部分，将于2025年开始初期运营，并允许Natcast、NY Creates和NSTC成员合作，开展研发活动。对此，美国商务部标准与技术副部长兼国家标准与技术研究所所长Laurie Locascio表示，凭借20年培育有效公私合作伙伴关系的经验，以及自成立以来在半导体研发、制造和人才发展方面投资超过250亿美元，NY Creates处于独特地位，可以支持NSTC的使命，提供开放环境以加速研究、缩短商业化时间，并在美国培育可持续的半导体生态系统。

Synopsys前高层、也是当前Natcast首席执行官的Deirdre Hanford指出，CHIPS for America的EUV设备强调致力美国开发和推进下一代半导体技术的承诺。与NY Creates合作，使Natcast和NSTC成员获必要EUV曝光机和流程，以促进更广泛的研究，并加速未来技术的商业化。

(首图来源：ASML)