中国由于发展方面的原因，一直受到了其他国家的限制，在这种呈现之下，我们也希望能够通过一些方式来改变，但是其中有一点也非常重要，那就是技术没有这么好发展。
大多数国家在技术制造领域都经过了比较长的时间，如果十分简单就能够被突破的话，就不会有这么难以运行的领域了，中国在芯片事业发展上已经被美国制裁过了一次，但即使中国有着比较好的一些发展前途上也并非一帆风顺。
在美国限制的那一时间段当中，中国通过自身发展崛起了属于我们的国产芯片制造，但是依然有一个领域，我们难以拥有优势，那就是在光刻机的突破上，这一技术目前都拥有一些国家是荷兰的ASML公司，但这家公司和美国的关系匪浅，而且在中国受到芯片限制的时候，他们也深受美国的授意不敢对中国有相应的技术支撑发展。
这些都在一定程度上让中国发展更加困难，但好在中国找到了一些突破的方式，那就是通过自己的研究来制造出我们的光刻机，虽然和其他国家尤其是荷兰的ASML公司差距比较大，但是也能够满足运用。
好不容易找到了另外一条出路，现在看来也并不可靠，因为，光刻机还需要搭配着光刻胶进行利用，而90%以上的光刻胶生产都掌握在了日本的企业手中，中日的关系按道理来说应该比较平静。
但由于他们站在美国那一边，所以通过授予现在也有很多方面在直接对抗中国，中美的科技大战让中国真正意识到高端芯片领域我们难以在设计出产品，而美国的疯狂打压也成为了我们的一个心病
即使在芯片维度的战争当中，中国的国产芯片有一些比较好的发展，但是想要和国外成熟国家做对比，依然还有比较大的差异，再加上现在得知日本企业占据了全球90%的供应量，也彻底让大家觉得这是一个非非常致命的问题，而且光刻胶的寿命只有半年的时间，在半年之后必须要进行重新购买，用不掉的也只能够报废，尽管很多人想要现在多囤一点，也不能够支持后续发展的运用！
那么光刻胶究竟是什么样的东西呢？其实它是一种特殊的光敏材料作用，就是把小小的电路图案移转到晶圆上去。
光刻胶图在晶圆表面，通过特殊模板进行紫外线曝光之后，再通过化学反应将电路图案移转移到光刻，加上以此来确保。
同时，它的质量还直接决定和影响着芯片等元器件的精度和性能，在目前最先进的芯片制作上，已经做到了三纳米，因此对光刻胶的粘着性以及均匀性就有了更多的要求。
如果是其他国家，大家都还能够安慰自己，可以通过学习甚至是好的模式来获取更多的知识，但是掌握着光刻胶研制的国家是日本，就让大家开始为此担心了，首先他们一直都同美国站在一起，所以想要让他们对我们的技术进行合盘，突出并不可能。
其次，就是购买的再多也没用，因为它有一定的时限，三纳米芯片是目前最高的技术，我们想要有与之配套的光刻胶，也不太可能，再加上中国的技术突破并没有达到如此高的程度，即使买回也不一定能够使用。
中国在芯片事业发展的缺陷在世界上已经不是一个秘密，所以日本也很有可能会抓住这次机会来对中国卡脖子，但现在的关系还没有这么的紧缺，那么一旦日本进行了断供，我们该怎么办呢？
所以我们也必须开辟出一条新的路线，那就是加速中国光刻胶的发展。
目前我国的南大光电等企业已经投入了巨资进行研发，并且在三年的时间当中就获得了属于我国的一款ARF光刻胶，这一款光刻胶还受到了很多客户的好评。按照这种发展，相信也会有一定的实力。
然而在技术进展领域有是一个非常明显的东西，那就是前进的道路非常的艰难，这也是我们需要持续推进。
在这些大型技术的研制上，也应该更加保证和推动政府的支持，光刻胶虽然不需要像芯片那样有巨大的投资，但是政府的引导也绝对不可或缺,中国在未来发展当中面临的考验是比较多，所以我们也需要齐心协力来创造优势，只有这样才不会被其他国家看不起。
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