光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机的制造集合了精密光学、精密仪器、高分子物理与化学、机械自动化软件、高精度环境控制和流体力学等多种世界先进技术，光刻机作为半导体设备三大件之一，是人类文明智慧的结晶，被誉为“现代光学工业之花”。光刻技术是一种精密的微细加工技术。常规光刻技术是采用波长为2000～4500埃的紫外光作为图像信息载体，以光致抗光刻技术蚀剂为中间（图像记录）媒介实现图形的变换、转移和处理，最终把图像信息传递到晶片 (主要指硅片) 或介质层上的一种工艺。光刻技术就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。简单来说芯片设计人员设计的线路与功能区“印进”晶圆之中，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。

光刻机的发展前景是积极的，‌尽管面临挑战，‌但中国在光刻机领域的自主研发和产业化方面取得了显著进展，‌未来有望逐步缩小与国际先进水平的差距。‌

近年来，‌中国在光刻机领域的技术研发和产业化方面取得了积极进展。‌例如，‌上海微电子正在研发28纳米浸没式光刻机，‌预计将在2023年底交付国产第一台SSA/800-10W光刻机设备。‌此外，‌华为在EUV光刻机核心技术上取得了突破性进展，‌华中科技大学研制的OPC系统、‌哈尔滨工业大学研制的激光干涉系统等也各自有所突破。‌这些进展表明，‌中国在光刻机领域具有一定的技术积累和人才储备，‌有望逐步缩小与国际先进水平的差距。‌

尽管面临技术和供应链产业链的完善挑战，‌中国光刻机市场的国产化进程仍在不断推进。‌2022年，‌国产光刻机已经占据中国市场规模的三分之一，‌显示出中国光刻机产业的发展前景依然值得期待。‌在基础研究领域，‌中国科学家们也取得了重要突破，‌如完成了EUV和软X射线分束器的设计与验证，‌为光刻机技术的发展提供了有力支持。‌此外，‌中国科学家提出的“集群式”光刻技术，‌通过集合现有旧光刻机，‌利用算法优化相互迭代，‌达到前沿高度，‌为光刻机技术的发展提供了新的可能性。‌

高端光刻机领域，‌中国企业如上海微电子、‌上海微技术工业研究院等已实现重大突破，‌掌握了关键的核心技术，‌具备了与西方国家抗衡的能力。‌这表明中国光刻机企业正在实现重大突破，‌尽管在中低端芯片制造领域与全球顶尖企业仍有差距，‌但未来应将目光转向高端芯片制造领域的研发和生产，‌加快向全球价值链中高端攀升。‌

综上所述，‌尽管面临技术和供应链产业链的挑战，‌中国在光刻机领域的自主研发和产业化方面取得了显著进展，‌未来有望逐步缩小与国际先进水平的差距，‌为全球半导体产业的发展做出更大的贡献

芯源微（688037）

公司亮点：致力于为客户提供半导体装备与工艺整体解决方案

题材概念：光刻胶+先进封装+华为+芯片

产品包括光刻工序涂胶显影设备(涂胶/显影机、喷胶机)和单片式湿法设备(清洗机、去胶机、湿法刻蚀机)。

同飞股份（300990）

公司亮点：国内数控装备制冷领域具备业务规模和产品覆盖面的主要厂商之一

概念题材：光刻机+储能+液冷服务器+新能源汽车

公司液体恒温设备在半导体制造设备领域主要应用于光刻机、刻蚀机、PVD/CVD、研磨抛光机等关键设备的温度控制。

富乐德（301297）

公司亮点：国内较早从事精密洗净服务、较早实现半导体PVD洗净工艺量产服务的企业

概念题材：光刻机+芯片

公司已研发并量产半导体14nm制程洗净工艺、储备的半导体7nm部品清洗工艺已较为成熟。公司为光刻环节的溶胶显影、涂胶等设备提供精密洗净服务。

6月虽然行情不怎么样，但是在6月份布局的逸豪新材（301176）粉丝收获96%+的涨幅18w的收获机会，金溢科技（002869）67%的机会，包括最近的东山精密（002384）的涨幅37%都已经回了一大波血了，包括一些其他的这里就不一一列举了!

最后一家，也是最看好的！

1、公司亮点：行业内生产PCB感光油墨产品品种最为齐全的企业之一，公司的光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品，主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。

2、中报业绩大幅预增，趋势来看也是已经进入到上升趋势加主升浪的阶段，近期资金流入进场明显。

3、光刻机+PCB+芯片+染料涂料多概念股，技术面看已经开始在放量向上突破的状态，即将启动主升浪！