中国十大“光刻机”概念龙头公司一览（附名单）

相关概念：荷兰Anteryon公司的光学器件产品主要应用于光刻机半导体设备、工业自动化等应用领域。

优势：通过并购荷兰ANTERYON公司，将光学设计与组件制造能力与公司的业务技术协同整合，形成了光学器件设计制造与一体化的异质集成能力。

相关概念：公司为相关企业的相关设备提供冷却系统配套，已实现供货。目前该冷却系统占公司总体营业收入的比例比较低。

优势：公司拥有先进的机电产品研发及试验设施、高素质的研发队伍，形成了“机械技术、电机技术、控制技术、材料技术、冷暖技术、仿真技术、音振技术、工艺技术、智能制造、试验检测”等领域的自主研发能力和技术集成能力。

相关概念：公司主营业务产品仍以光刻胶专用化学品为主，分为光刻胶用光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂等)和光刻胶树脂两大系列。

优势：公司十分注重技术开发，每年均投入大量资金用于技术升级和新品开发，立足于产品自主研发创新，不断通过新产品的开发实现持续发展。

相关概念：公司是一家专业从事微电子化学品的产品研发、生产和销售的高新技术企业，主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等

优势：公司已掌握了一系列核心技术，定位为微电子材料的中小企业联合体，致力于成为半导体集成电路电子材料的领先企业，拥有由5台光刻机为主组成的光刻胶研发平台。

相关概念：目前公司生产的光刻镜头已应用于PCB光刻设备，生产的核心光学模组已应用于光刻检测系统。此外，公司的核心光学元组件产品可应用于激光微加工、光学传感等领域，光学显微镜已用于光通讯、半导体相关设备及集成电路的检测等领域。

优势：公司拥有专利60项，多项科技成果获省、市科学技术奖，系科技部认定的“高分辨荧光显微成像仪研究及产业化”的项目课题承担单位。

相关概念：公司主营业务为关键半导体材料的研发和产业化。收入来自于化学机械抛光液和光刻胶去除剂。

优势：公司始终围绕液体与固体衬底表面处理和高端化学品配方核心技术并持续专注投入，成功打破了国外厂商对集成电路领域化学机械抛光液和部分功能性湿电子化学品的垄断，并在报告期内拓展和强化了电化学沉积领域的技术平台，产品覆盖多种电镀液及添加剂。

相关概念：公司研发项目“电子级酚醛树脂的合成技术研究”目前处于小试阶段。

优势：公司将自身定位为专业的水处理剂生产商，以工艺技术、生产规模、持续创新、产品质量、成本控制等方面的优势引领水处理药剂生产领域发展。

相关概念：公司能够为芯片、各类精密测量用光学部件，航空工业用元器件、精密机械、电子等典型的清洁度要求最高的应用领域等，定制高端专业化的清洗设备及系统化解决方案。

优势：公司拥有国内外专利三百余项，在德国蒙绍、德国菲尔德施塔特、瑞士莱茵埃克、中国沈阳拥有四个竞争力及研发中心，分别专注于专用单件清洗、通用多件清洗、精密清洗及智能装备领域,进行技术创新和产品研发。

相关概念：公司参股3.6%的北京科华有供货给中芯国际，北京科华目前是国内唯一拥有荷兰ASML光刻机的已生产光刻胶并供货的光刻胶公司。

优势：公司目前拥有国内领先的聚氨酯胶粘剂行业技术创新开发基地，系“高新技术企业”、“中国包装优秀企业”,设有“北京市企业技术中心”等。

相关概念：公司主要布局有显示用光刻胶（PSPI）和封装光刻胶(PSPI)产品。半导体光刻胶有较高的技术壁垒，目前主要产品为海外供应商垄断，国内客户采购以进口为主，公司封装用光刻胶(PSPI)，在显示用PSPI的技术平台基础上，吸收了PI合成及产业化方面的技术经验，目前已经开始送样测试工作。

优势：公司二十多年来利用自身人才团队的稳定、技术的积累和行业的经验打造七大技术平台：有机合成技术平台、无机非金属材料技术平台、高分子合成技术平台、物理化学技术平台、金刚石工具加工技术平台、工程装备设计技术平台、材料应用评价技术平台。