在华为这样的中企,特别是在手机芯片和通信等数字基建领域,不断蚕食着西方公司的市场份额之后,美国等西方国家便把我们当成了“绊脚石”,不断地针对本土企业甚至是产业,无所不用其极,无所不用其极。
从一开始,中企被排除在了名单之外,到后来,他们与包括美科技在内的外国公司签订了“三方协定”,共同控制着世界上的光刻机。我们华夏是世界上第一个使用芯片的大国,没有了芯片,我们华夏的科技和经济,将会受到很大的影响。因此,芯片和光刻机的自主可控,就成了当务之急!
这也是为什么,每当有一项技术被卡脖子的时候,他们的国民都会产生一种强烈的战意,而当他们掌握了这门学科的基础原理和基本方法之后,他们的技术难点也会在短时间内被攻克,这也是为什么,每当“捷报”从我们国家的芯片产业中传出的时候,他们都会感觉到一种前所未有的紧迫感。
而清华大学唐传祥的研究小组,更是拿出了“王炸”,在《自然》上刊登了一篇题为《稳态微聚束原理的实验演示》的论文,其中提到,他们的研究小组利用量子二极管(PTB)的测量光源,在国际上率先完成了国际上第一个稳态微群聚束原理性实验。根据稳态微群聚理论,实验上可获得高功率、高重频、窄带宽的相干辐射,其波长可覆盖 THz-深紫外(EUV)。清华大学的这项技术突破受到了极大的重视,原因在于它可以用来制作极紫外光刻机。
光刻机是芯片生产链中必不可少的一环,也是最难制作的一环。光刻机的精密程度,不仅会影响到晶片上的晶体管密度,也会影响到晶片的效能与能量效率,因此光刻机的精密程度,与光源的曝光分辨能力及波长密切相关。
ASML公司目前最先进的 EUV光源,就是通过对锡进行辐照,产生高达13.5纳米的极紫外光,这种技术被 ASML等欧美国家所垄断,只对 ASML进行了独家供应。
由清华大学牵头的稳态微群聚束,是一种全新的、革命性的高能粒子加速器,它的波长可以自由调节,适用于各种应用场合,甚至是6 nm的Blu-X光刻机,这将为将来大规模生产 EUV打下坚实的技术基础。
据了解,清华大学一直在大力支持和推进国家级稳态微群聚束极紫外光源项目的研究,一旦该项技术成熟,具有自主开发能力的国产芯片将不再受美、日韩三方协定的约束。
而光源,则是国内高端光刻机中,最难的部分。
其中,光源,物镜,工件台三个主要子系统。中科科美的镀膜设备能够达到0.1 nm的精密加工,完全能够达到极紫外透镜的制造要求。华卓精科联合清华大学研发的双工位平台,突破了 ASML公司长期垄断两个工件平台的局面,达到了较高的国产化水平。而现在,清华大学在光源研究上取得了重大突破,这对于加快我国极紫外光刻机的产业化进程,将起到至关重要的作用。就是这样,有外国媒体说:中国的芯片很快就会回归!
ASML曾经说过,就算是拿到了图纸,他们也不可能制造出光刻机,这说明要让这些零件之间的配合更加默契,发挥出最大的作用,这是一条漫长的道路,这就要求整个产业链都要密切合作,不断地进行技术创新和研发,提升零件的性能与品质,同时也要加大人才的培养与引进,为芯片工业的发展提供最有力的保证。我们有信心,有信心,有信心有国产芯片!
好文章应该发表在我们的中文杂志上
是12厘米吗!
这样的新闻国内都不敢发表,能是真的吗?打死我都不相信清华有这个能耐!清华生在国外有这个成就,为西方服务我还信[笑着哭][笑着哭][笑着哭]!
这种小编最特么会跪,成天狐假虎威外媒咋说。好像我媒都非媒似的。
爽文
光刻机几千项技术中的一项突破有鸟用
留在国内的清华生好象不是顶尖的,近年内清华的研究成果甚微还不如军工七孑。
天天吹,转圈吹牛逼。