24亿一台！EUV光刻机引入，加速2nm工艺布局

汇集半导体行业资讯，技术前沿？发展趋势！韩国媒体3月14日报道，三星电子月初在华城园区引进了首台ASML公司生产的High-NAEUV光刻机EXE:5000！价值高达5000亿韩元，人民币约24.88亿元。

   ASML是少数几家能够提供此类高端光刻机的公司，它的HighNAEUV设备“EXE:5000”技术创新，大大提高了光刻精度！对于2纳米及以下先进工艺来说，非常重要。

   EXE:5000光刻机，增大了透镜和反射镜的尺寸！数值孔径（NA）从0.33提升至0.55，线路宽度进一步缩小，功耗降低，运算速度提升？三星自去年就开始仔细研究这设备的工艺应用，计划用在下一代半导体制造上。

   三星电子表示，安装调试完EXE:5000光刻机后，要打造一个完整的2纳米工艺产业体系！以此加强它们在全球半导体制造领域的优势地位。

   三星晶圆代工业务部负责人韩镇万指出！虽然环栅结构(GAA技术)转换方面取得了进步，但是市场化过程还需要加快！快速批量生产2纳米工艺是重要任务。

   全球半导体巨头都在加快部署High-NAEUV设备！提升生产工艺水平。

   英特尔2023年首先购买了ASML的首台High-NAEUV设备，还签了合同要买6台！路透社报道，英特尔前两台High-NAEUV设备已经开始运行，每季度处理3万片晶圆，实力强大！2023年第四季度，三星在全球芯片代工市场排名第二，收入却环比下降1.4%，只有32.6亿美元，市场占比才8.1%？

台积电呢？超过三分之二的市场占比，继续保持领先！竞争激烈！三星加快引进High-NAEUV光刻机，打造2纳米工艺产业体系，积极应对未来的市场格局。

   BITS&CHIPS报道，英特尔预计率先获得EXE:5200设备，用于它的14A技术节点，台积电计划2028年启动High-NA批量生产！

全球半导体巨头都在加快部署先进工艺，今后的市场竞争会更加白热化！三星引入高端光刻机，剑指2纳米！半导体竞争，硝烟弥漫？韩国巨头三星电子，斥巨资引进ASML的High-NAEUV光刻机，目标直指2纳米工艺！

这可不是小打小闹！5000亿韩元！约合人民币24.88亿元！这台EXE:5000可不是普通的机器！它是通往更小、更快、更省电芯片的大门！全球只有少数几家公司能造这玩意儿，ASML正是其中之一！

它的技术创新之处在于，通过增大透镜和反射镜的尺寸，数值孔径（NA）从0.33提升至0.55！这是什么概念？线路更细了！速度更快了！功耗更低了！三星从去年就开始研究怎么用这台机器了，目标是下一代半导体制造。

   他们想在芯片制造领域保持领先地位！竞争对手可不少，台积电、英特尔都在虎视眈眈。

   三星晶圆代工业务部负责人韩镇万也说了，虽然环栅结构技术转换方面有进步，但商业化进程还得加快！2纳米工艺快速量产是重要任务！英特尔也早就开始行动了，2023年就买了ASML的首台High-NAEUV设备，还签了合同要买6台。

   路透社报道，英特尔前两台High-NAEUV设备已经正式投产，每季度处理3万片晶圆，生产能力惊人！虽然三星在2023年第四季度全球芯片代工市场排名第二，但收入下降了，市场占比也只有8.1%！台积电的市场占比高达67%，遥遥领先！这场竞争，真是你追我赶！

三星引入High-NAEUV光刻机，构建2纳米工艺产业体系，就是为了在未来的市场竞争中取得优势！BITS&CHIPS的报道也显示，英特尔预计会先拿到EXE:5200设备，用于它的14A技术节点；台积电计划2028年启动High-NA批量生产。

   全球半导体巨头都在积极布局先进工艺，这预示着未来的市场竞争将会更加激烈！谁能笑到最后呢？我们拭目以待！声明：本文系原作者创作。

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