对于光刻胶这个词汇，大家应该比较陌生，但是对于只有一字之差的光刻机，相信很多人哪怕不了解也都在过去四年被动反复的“被听说过”。

不可否认光刻机的确是芯片制造环节中极为重要的一款设备，但是，这并不是说国产光刻机技术获得巨大突破，我们就可以制造出高端芯片，因为，芯片制造是一个极为复杂的过程，哪怕是简要的分类也包括了芯片设计、掩膜制造、半导体制造、封装测试、成品制造五大步骤，每一个步骤中又包含了更多的小步骤。

而在这些芯片制造的环节中要使用的设备也是众多的，除了大家熟知的光刻机以外，还有用于芯片设计的EDA软件，用于形成电路图案的刻蚀设备，用于改变硅片导电性的离子注入机等。

而光刻胶就是芯片制造过程中极为重要的一个材料，它的存在对于光刻极为重要，甚至毫不夸张的说，光刻胶的品质直接关系着芯片的成败、精度。

如果说光刻机是照相机的话，那么光刻胶就相当于胶片，相片质量的好坏除了跟相机的像素有关系以外，还和胶片的品质有着很大关联。

在2020年之前我们国内的光刻胶发展比较迟缓，所以在更多时候，我们的光刻胶是依赖海外市场进口的，而绝大部分都来自于日本的日本合成橡胶公司、东京应化、住友化学和富士胶片。

因为在上个世纪70年代，日本率先看到了半导体市场的利润，所以在半导体领域发展出了较为完善的产业链，虽然后期遭遇到了美国的压制，可是产业链的完善度依旧摆在那，所以在光刻胶领域，特别是半导体用光刻胶方面，日本企业在全球市场都拥有着很大的市场份额。

根据数据显示，在2022年全年我国感光化学品进口总额为23.5亿美元，其中12.05亿美元都是来自于日本市场，足可见我国在光刻胶领域对于日本是有很高的依赖度的。

可惜的是，伴随着2023年3月31日，日本方面宣布在尖端芯片领域对我们展开限制措施，虽然这被限制的23类设备中并不包括光刻胶产品，但是，这也让我们明白了，想要保证芯片产业链的安全，在光刻胶领域我们也必须补上全部的空白。

在这种情况下，国内的晶瑞股份，南大光电等企业都在加速国产半导体用光刻胶的开发工作，不过哪怕是半导体用光刻胶的研发也主要适用于90nm到14nm芯片的光刻使用，至于更高精度芯片的光刻还是需要依赖海外市场。

不过，就在4月2日，华中科技大学方面传来关键性消息表示，通过巧妙的化学结构设计，以两种光敏单元构建“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”，最终得到光刻图像形貌与线边缘粗糙度优良、Space图案宽度值正态分布标准差极小、性能优于大多数商用光刻胶。

这句话说的简单直接一点就是，在实验室阶段，华科在光刻胶领域获得了巨大突破，根据华科方面的表述显示，该技术可以为EUV光刻胶的着力开发做技术储备，这也就是说该技术可以应用于EUV光刻胶领域。

这也就是说，未来如果我们的EUV光刻机突破了，也不需要进口EUV光刻胶了，在更高阶的芯片制造方面，我们也已经有了逐渐成熟的技术储备了。

对于这则消息，日企应该是不愿意看到的，毕竟这意味着在光刻胶领域未来日企可能完全丧失掉对于我国的出口，并且这还是最小的影响可能，当我国光刻胶和EUV光刻胶技术成熟并且产能得到保障后，出海在全球市场和日企竞争，这对于日企来说才是最大的伤害，毕竟，中国制造的实力摆在那里。

不过，光刻胶只是一环，毕竟，我们现在在做的是，以一己之力在国内搭建出完备的半导体产业链，并且如今已经初见成效，从芯片设计软件到芯片制造设备我们都有了技术储备，并且还在快速迭代升级，追赶上世界一流脚步不会太远。

如果说，上个世纪八九十年代，美国以强硬措施打压日本半导体行业是导致日本半导体产业跌落神坛的第一次冲击的话，那么接下来，我们通过自主研发的方式搭建起来的纯中国技术的半导体产业链将对于日本的半导体事业造成第二次冲击，并且这一次的冲击将会一直持续下去。因为，中国半导体产业链的崛起会一直持续下去。