上海国产光刻机在国内产线上应用情况。
上海国产光刻机在国内产线上的应用情况如下：
1. 上海微电子是国内主要的光刻机生产企业之一，其产品主要采用ArF、KrF和i-line光源，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求，28nm设备积极研发推进中。上海微电子自主研发的600系列光刻机已经突破了外国光刻机卡脖子，可批量生产90nm工艺的芯片。
2中国光刻机市场规模达到27亿美元。上海微电子的光刻机在封装、LED、面板领域市占率较高，其600系列步进扫描投影光刻机可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm工艺需求，适用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。3. 国家工信部发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024版）》中提到了两款国产DUV光刻机，分别是氟化氪光刻机和氟化氩光刻机。氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度，与ASML旗下TWINSCAN XT：1460K性能相近。
4. 光刻机国产化率不高%，核心原因在于零组件供应与整机技术与海外差距较大。尽管如此，国内企业在光刻机产业链的部分领域已经达到或接近国际先进水平，可能成为上海微电子下一代浸没式光刻机的潜在供应商。
5. 上海微电子装备公司在开发了SSB500系列步进重复光刻机，在封装领域的市占率已达很高。此外，上海微电子还推出了用于IC前道制造的600系列光刻机，工艺覆盖90纳米、110纳米和280纳米。
综上所述，上海国产光刻机在国内产线上已经有了一定的应用，尤其是在封装、LED、面板等领域，并且在90nm工艺芯片的生产上取得了突破。同时，国产光刻机在技术上正逐步接近国际先进水平，未来有望进一步扩大在国内产线上的应用。
