ASML凭借独家生产EUV光刻机的技术优势，在光刻机市场供应链中占据极大地位。按照ASML的目标，未来还会生产出更多的EUV光刻机，大幅提高产能。预计会在2025年达到年产70台的水准。

但是由于只有ASML能生产，给各国追逐顶级芯片制造产业链带来更多的变数，因此各国纷纷行动，展开对顶级光刻机的研究。

哪些国家展开行动，对顶级光刻机又进行了怎样的研究布局呢？若各国EUV光刻机破冰，对ASML意味着什么？

ASML的EUV光刻机客户就那么几个，台积电、三星、SK海力士、英特尔。这四家企业是目前明确采用ASML EUV光刻机的客户。

一般来说，购买EUV光刻机必须具备两个个条件，一个是在可供货范围内，不受任何规则影响。第二个是有足够的资金，用于支付昂贵的EUV光刻机费用，一台大概价值1.2亿美元。

钱的问题好解决，很多半导体制造巨头都能支付这笔费用。但是处在自由贸易市场，不受某些规则影响，就已经给ASML排除了一大批潜在客户。

而且采购EUV光刻机的厂商必然是掌握了相应技术实力，有生产高端芯片的需求，否则不可能花费大价钱买用不来的设备。这又筛选了一大批厂商。

EUV光刻机主要用于生产高端芯片，全球芯片制造商当中，能造出的又有多少。所以购买EUV光刻机的两个条件并不是那么容易达成的。

但实际上，各国对EUV光刻机的需求并不小，只是奈何市场规则，ASML无法做到EUV光刻机的自由出货，既然如此，那便展开自主研发，于是关于顶级光刻机的研究，各国纷纷行动。

有哪些国家对顶级光刻机进行了怎样的布局呢？目前来看，对顶级光刻机有参与研究布局的国家主要包括三个，分别是中国、俄罗斯、日本。

这三个国家在顶级EUV光刻机设备方面，有的展开理论基础的研究，有的进行实际产业链布局，也有的还在定下目标计划阶段。

比如中国在EUV光刻机展开基础理论的研究，并且还有中科院参与的身影。

根据中科院上海光机所发布的博士后招聘公告可知，其中的工作岗位涉及到EUV光刻机。如“原子分子物理”这项工作方向的工作内容为光刻机EUV光源产生理论和实验研究。

中科院招聘的多项工作岗位和EUV光源有关，如此明确的定向布局，意味着什么不用多说了。

不过和中国布局EUV光刻机光源理论研究不同，俄罗斯选择的是另辟蹊径，用X射线研发X射线光刻机。计划造出媲美ASML EUV极紫外光的光刻机设备。

相比于EUV极紫外光，X射线的波长更短，分辨率更高，如果俄罗斯研究成功，必然是ASML不愿看见的。

最后就是日本了，在大部分人的印象中，日本半导体产业的实力主要集中在光刻胶材料，EUV光罩或者是电容，电阻等。但许多人容易忽略的是，日本光刻机产业的实力同样不俗。

并且是全球范围内唯一拥有两家光刻机厂商的国家，这两家厂商分别为佳能，尼康。由于光刻机的原理和照相机相似，因此佳能，尼康同时也是世界顶级的照相机巨头。

面向未来，佳能已经展开行动，在后道光刻机领域研究3D封装光刻机，为行业日益成为焦点的芯片堆叠技术铺路。佳能或许是打算从封装出发，打破摩尔定律极限，如果成功，佳能3D封装光刻机或许会比ASML的前道EUV光刻机更重要。

中国、俄罗斯、日本都展开了不同的顶级光刻机研究，总的来说中国进行EUV光刻机人才的招募和理论研究，为将来落地做准备。俄罗斯另辟蹊径，走X射线光刻机路线。日本瞄准后道，用3D封装光刻机开辟前路。

如此势头，已经不是ASML可以左右的了。若最终其它国家的EUV光刻机破冰，对ASML意味着什么？其实ASML自己已经给出答案了。

ASML拿中国市场举例，称规则会加速中国市场自主化，15年的时间里，会让他们造出所有东西，到时候将失去中国市场。

研究EUV光刻机看似艰难险阻，却还是有无数人迎难而上。ASML看清了市场未来的诸多可能性，言外之意就是中企正在“关闭”EUV光刻机的大门。

一旦中企有了更多的选择，或者是自己掌握了相应技术，届时ASML的EUV光刻机拿到自由出货的许可，也未必能顺利入场了。

所以各国展开顶级光刻机的研究，若实现破冰，对ASML意味着将失去更多的潜在客户和市场。原本有希望打开的EUV光刻机大门，会在各国自主化当中给关闭。

ASML未来会掌握更多的EUV光刻机产能，目前的客户未必能消耗持续增长的产能。所以寻求自由出货对ASML来说是一个至关重要的工作。但有些事情ASML说了未必管用，客户市场也明白这一点，与其强求，还不如靠自己。