近日，美国国家科学院院长在一次演讲当中说到，中国在很多领域正在奋起直追甚至已经反超美国。她认为美国需要采取行动，以确保其在科学领域保持强大。
甚至在教育上面，美国也在面临一项大挑战。在研究生群体当中，来自于其他国家的留学生数量，已经超过了美国本土的学生数量。而在博士后群体当中，来自于其他国家的留学生，也占到了将近一半的数量。
美国科学院院长还在演讲中指出，在国际科学领域，美国学生的排名处在中游，而名列前茅的主要是来自于亚洲国家的学生，所以美国必须想办法创造本土未来的科技劳动力。
前期跟西方学习欧美地区作为科技强盛的代表，一直都是各国留学生来往最多的地方。尤其是美国的硅谷，近代的科技发展基本上都是从硅谷开始的。
从晚清的洋务运动开始，学习西方先进技术就成为了我们发展科技的主要方向。
清政府掌握着北洋水师这一硬件战斗力极强的海军战队，其中包括了清政府委托德国企业打造的定远和镇远两艘战舰，号称亚洲最强的战舰，整个北洋水师还有4000多人的官兵，战斗力位于日本海军之上。
但是由于其封建的思想，只愿学技术，不愿意学习西方的经济体系，最终导致北洋水师在甲午海战当中败北，两艘战舰也被摧毁。
洋务运动的失败，给了后来人一些启发，既要学技术，也要学习新思想文化。
新中国成立之后，以钱学森、邓稼先等科技先驱为代表，去美国留学，学习美国的先进知识技术。等到先驱们学成回国之后，中国的工业体系才逐步有了前进的方向。
美国压制中国的科技发展，并不是从制裁中兴华为开始的，早在1949年11月，以美国为首的强国在法国巴黎组建了巴黎统筹委员会，对社会主义国家实行尖端技术的禁运，针对的目标很明显，一个是新中国，另一个就是以前苏联为首的同盟国。
甚至这个委员会还单独成立了一个分部门，专门针对中国。
再加上大环境的影响，早期有大量的技术人员，都选择来到美国学习工作，也有很大一份华人在这个期间入了美国国籍，其中就包括了不少如今已经回国发展的技术人员。
后期回国发展现阶段的中国微电子产业，从技术层面来说，拥有美国国籍的美籍华人群体是核心的发展因素。大部分我们的技术人员和产品设备，都是美籍华人从美国相关领域深耕多年之后，回国从头开始的。
张汝京张汝京是中芯国际的创始人，美国国籍，信仰基督教，曾经任职于德州仪器，跟随基尔比和张忠谋一起工作。
他在德州仪器提前退休之后，来到了台湾，担任世大半导体董事长。几年之内，世大半导体的工厂遍台湾，成为了继台积电、台联电之后的第三大晶圆厂，并且张汝京准备将世大后续的工厂建设在中国大陆。
台积电随即进行干预，绕开张汝京，以丰厚的待遇说通了除张汝京以外的世大董事会成员，台积电收购世大半导体的协议生效。张汝京看到情况无非挽回，带领着自己的家眷，以及一批来自于世大、台积电、德州仪器的老工程师，北上去中国大陆发展。
在上海市经委副主任江上舟的帮助下，张汝京将工厂建设在上海市，取名中芯国际。
并且张汝京听从江上舟的意见，将注册地选在开曼群岛，这样可以在不大动国家政府补贴的前提下，吸纳国外资本，用国外资本的力量来发展企业。
并且由于张汝京是美国国籍，信仰基督教，他轻松说通了美国教会给中芯国际做担保，保证中芯国际不涉及跟中国军方的合作。他还利用美国国籍的身份，从美国的国家部门拿到了设备技术支持。
中芯国际在极短的时间内，就将工厂和生产线拉满，建立起了中国最大的集成电路制造工厂。
后来台积电用专利不断压制中芯国际，导致中芯国际进行赔款，资金链受损严重。江上舟和张汝京与台积电曾繁城进行协商，最终还是江上舟以大陆市场对其进行制衡，才保住了中芯国际没有被台积电完全压死。
在签署完和解协议之后，张汝京引咎辞职，离开了一手创建的企业。江上舟担任中芯国际董事长，带领中芯转型为晶圆代工，扭亏为盈，为中芯国际后来的发展垫定了技术基础。
尹志尧尹志尧是国际等离子刻蚀机项目的牵头人之一，美国国籍。他在美国工作了大半辈子，从英特尔到泛林科技，最后到了应用材料一直工作到退休。
在他的领导下，泛林科技和应用材料公司在刻蚀机项目上面已经形成了深厚的技术壁垒。这两个美国公司加在一起，基本垄断了全球的刻蚀机市场。尹志尧也因此获得了应用材料公司的高度重视，担任总公司的副总裁。
刚才我们提到了上海市经委副主任江上舟，这时候他已经成为了上海市的副秘书长，并且还担任上海化工区领导小组办公室主任，主管上海工业的发展。
在帮助张汝京建设完中芯国际之后，他便开始想办法进行芯片全产业链的打造，于是便想到了刻蚀机与尹志尧。
在举办半导体大会的时候，江上舟见到了尹志尧，与他探讨了国内外半导体行业的发展，并且也表达了自己希望他能回国发展的意愿。
在权衡之下，尹志尧放弃了在美国获得的所有荣誉，回国来到了上海，跟随他而来的，还有几十位技术人员。
江上舟通过自己的力量，给尹志尧筹集到了创办企业的资金，以及来自于国家政府层面的政策支持。由尹志尧担任董事长，中微半导体在上海创办。
尹志尧带领着技术人员用了3年时间，从零开始，打造出了一款双反应台刻蚀机，产品的效率比海外的同期产品高出30%以上，这款产品是中国大陆第一款拥有自主知识产权的高端芯片设备。
随后泛林科技和应用材料在美国和中国分别起诉中微半导体技术侵权，但是尹志尧未雨绸缪，早在回国的时候，就让跟随而来的技术人员签署协议，不带走任何美国的设备技术。
还将刻蚀机现有的3000多项专利列出来，全部以新技术手段避开，打造完全具有自主知识产权的刻蚀机设备。
在随后的专利官司当中，应用材料因为找不到中微侵权的证据，跟中微庭外和解，泛林科技则是直接败诉。
这两场官司的胜利，为中国发展刻蚀机项目扫除了最大障碍。
现在由中微半导体打造的部分刻蚀机产品，已经售出给许多晶圆企业了，其中还包括台积电。
梁孟松梁孟松是现任中芯国际的CEO，中国国籍。早年在台积电工作，后来又到了三星，离开三星之后来到了中芯国际，一直工作到现在。
他在台积电工作的时间最长，曾经与导师胡正明联手，先于IBM开发出了130nm的工艺，甩开了竞争对手，给台积电垫定了晶圆代工老大的地位。
梁孟松为台积电创造了许多技术专利，这些专利也成为了台积电最强大的护城河。后来他与台积电的管理层出现了分歧，认为自己的努力得不到管理层的重视，随即便辞职离开了台积电。
离开台积电之后，三星立马找到他请求合作，并且开出高于台积电3倍的薪资作为基础待遇，还承诺会把他提拔为管理层。
梁孟松选择加入三星，他加入三星之后，劝说三星管理层放弃正在研发的20nm工艺，从22nm直接发展14nm工艺。虽然三星研发团队有所顾忌，但还是选择相信他。
不出一年的时间，三星的14nm工艺落地，同期的台积电在经过半年之后才稳定了16nm工艺，三星在技术发展的速度上面反超了台积电。
随后台积电以专利侵权控告三星，最终法院判定台积电胜诉，驳回了梁孟松继续在三星工作的要求，梁孟松从三星离职。
离开三星之后，中芯国际找到他请求合作，梁孟松选择回到大陆，进入了中芯国际。
加入中芯之后，梁孟松带队从达到瓶颈的28nm技术直接越级发展14nm。不到一年的时间，中芯国际的14nm工艺开始流片测试。
进入快车道发展从建厂，到产业链分工，再到现在的单点突破，我国的芯片产业链已经掌握了发展节奏。而且现在越来越多的留学生也在回国发展的浪潮中，校企也逐步开始重视微电子产业的技术发展。
曾经美国引以为傲的芯片产业投入，也在逐渐被中国反超。并且中国现在授予的科学和工程学位要比美国更多，这也极大鼓舞了高校毕业生愿意留在国内工作的想法。
