从特朗普到拜登，美国对我国技术封锁的力度不但没有减弱，反而不断在加强。尤其是在芯片领域，美国不但出台了1000亿美元的激励政策，诱导台积电、三星加大在美国的投资力度，现在还将EUV光刻机垄断者ASML公司“拐”至美国，达到进一步封锁我国科技企业技术的目的。

7月27日，光刻机制造龙头企业荷兰ASML公司正式宣布，将在2021年12月，搬进位于美国东南部凤凰城的钱德勒的办公大楼，与美国芯片巨头英特尔做邻居。

自进入今年开始，英特尔接连三次宣布将大力提升芯片制造能力，最大限度地掌握半导体制造行业的话语权。如今，ASML公司与其做起了邻居，其必将在光刻机采购方面拥有近水楼台先得月的优势，一旦技术成熟，有很大的可能实现对台积电、三星的反超。

值得一提的是，“芯片禁令”出台之后，ASML公司在短短不到一年的时间内，先后五次示好我国市场，明确表示将尽最大的努力卖给我国交给先进的光刻机，推动我国芯片制造企业的发展，现在却跑到了美国，帮助美企提升芯片制造能力，那么，会不会影响“中国芯”崛起的速度呢？

众所周知，芯片制造是我国科技领域的短板，一方面是因为以美国为首的西方国家对我们的技术封锁，另一方面是因为国内企业缺少制造芯片的关键设备--光刻机。

关注半导体行业发展的朋友都知道，光刻机的工作原理与照片冲印技术相似，就是通过对光的利用，将刻在掩膜版上的集成电路线路图拓印在硅片上，是制造芯片必不可少的核心设备。

光刻机的工作原理看似简单，但却非常的复杂，即便是科技强如美国，也无法独自制造出EUV光刻机。

中国企业为了摆脱被人鱼肉的命运，就必须实现芯片国产化，而ASML公司彻底倒向美国，我国企业向从其手中购买高端光刻机的难度必将会增加不少，国内企业能够破局，如愿以偿的独自制造出高端芯片呢？

7月29日，美媒发表了一篇题为《中国3年内将掌握光刻技术》的文章，明确表明我国将在三年内彻底完成EUV光刻机的研发工作，五年之内制造出EUV光刻机。

美媒认为：中国科学家是世界上最聪明的一群人，他们钻研技术的精神让其他国家的科学家汗颜不已，他们在短短不到一年的时间内，掌握了EUV光源技术，完成了国内首台高能同步辐射光源设备的安装，就是最好的证明！

前不久，ASML公司CEO Peter也曾公开表示：掌握光刻技术，中国只需三年的时间，一旦中国掌握光刻技术，凭借其强大的制造成本优势，十五年之后，ASML公司将失去行业话语权。

ASML公司作为光刻机领域的龙头，Peter的讲话还是有一定分量的，即便是中国三年之内造不出EUV光刻机，五年之内也必将解决高端芯片被卡脖子的问题。

2018年，中芯国际以1.2亿美元的价格从ASML公司订购了一台EUV光刻机，并约定在2019年进行交付，2020年完成安装，但是在美国的阻挠下，ASML公司至今仍未能完成EUV光刻机的交付。

这件事告诉我们，要想实现技术独立，实现芯片的国产化，打破美国的芯片封锁，外企是靠不住的，我们可以依靠的只有自己！

不可否认的是，我国现有的工业基础，还不足以让我们独自制造出EUV光刻机，毕竟ASML公司制造的EUV光刻机的元器件和技术来自5000多家企业。但笔者相信，在我国科研人员的努力下，国内企业的通力协作下，我们必定能在不久的将来制造出国产EUV光刻机，彻底打破美国的芯片封锁。对此，你有什么看法呢？