2月12号， ASML公司将最新的 EUV光刻机发布在了公众面前，他们相信，即便是将所有的设备都拿出来，也不可能窃取到他们的技术。
这套系统已经从英特尔那里拿到了一份订单，其中第一套已经于去年底送到了它在俄勒冈州的D1X工厂。英特尔打算到2025年后才能将这套系统投入生产。
High- NA EUV光刻机可以蚀刻出8纳米宽度的线，比之前一代的 EUV光刻设备的1.7/分之一。导线越细，就越能装下更多电晶体，因此运算速度更快，储存能力也更强，这对 AI任务是非常重要的。
它上个季度获得的顶级极紫外光刻订单创下历史新高，表明英特尔，三星，台积电等大客户都对这项技术抱有很高的期望，但因为各种原因，中国制造商不能从他们那里买到这种产品。
有网友表示，就算把这些零件摆在国内，也不一定能复刻出来。
