在今年三月份，美国联合日、荷制定三方协议的消息闹得沸沸扬扬，主要内容就是针对中国大陆市场，封锁DUV光刻机等核心半导体设备材料。对此，日本、荷兰接连进行了确认，尤其是日本，积极配合美帝制定的规则，宣布从春季开始就限制23种半导体设备的出货。

在高阶芯片产品领域，日本虽然没有突出表现，可在半导体材料设备的供应链上，日本却拥有十足的话语权。数据显示，日本基本实现了芯片材料的全覆盖，市场占比达到了60%。

而在核心设备方面，日本总体占比超过了40%，仅光刻机这一项就有约20%，例如尼康和佳能，都是老牌光刻机巨头，其实力仅次于荷兰ASML。

“一代装备、一代芯片”是半导体行业共识，没有设备材料支持，芯片制造就无从谈起。中芯国际就是最好的例子，早已掌握了先进芯片代工技术，可苦于买不到EUV光刻机，以至于至今还停留在14nm工艺。

从美国联合日本、荷兰限制半导体出货的举动不难看出，其目的是为彻底堵死中国芯片产业的出路。

不过，中国拥有着万亿规模的半导体消费市场，不管荷兰ASML或者日本企业，中国大陆都是它们最大的“金主”之一，ASML有大约20%营收利润来自这里，而日本半导体为31%，累计金额超过了600亿元。

客观来说，日、荷紧跟老美脚步，拒绝卖给我们设备，损失的是它们。而且，这也将招致中国的反制，同时促使中国半导体加快自给自足的步伐。

或许是认识到了问题的严重性，荷兰近段时间突然“变脸”，表示愿意与中国加大贸易往来，新规之下，仍能继续向中企供应部分中低端光刻机，这些设备可应用于成熟工艺制程，如汽车芯片、5G基站等等。

ASML负责人温宁格在参加中国高层论坛大会后，也公开发声，称接下来将分配更多的光刻机产能给中企，其中包括单次曝光精度为38nm的1980Di型光刻机，该设备采用多重曝光技术，可实现7nm两次。

另外，对于中国自主研发光刻机设备的决定，ASML认为合情合理，毕竟是美限制出货在先。

同样是三方协议的制定者，在荷兰、ASML接连做出对中国市场出货光刻机设备的表态后，日媒惊呼：我们“上当”了。因为如今日本半导体限制23种设备出口，不只要蒙受巨大损失，还成了大陆市场的仇视对象，未来可能被彻底排除在外，得不偿失。

要知道，现阶段就连很多美企都在争取向大陆市场出货，例如英伟达，推出了绕开规则的特供版处理器，还有AMD、英特尔，也接连向中企客户降价。唯独日本半导体，仍然拎不清形势。

关于日本实施的23项半导体设备管制措施，大陆市场已向国际法庭诉讼，而在稀土材料、光伏硅片、激光雷达等数十项核心技术领域，中国也已全面展开反制。中国早已不是百年前任人欺负的时候了，我们足够多的“底牌”，让那些歧视中企的行为付出代价！

更关键的是，“中国芯”正沿着自主化道路不断崛起，平均每天的产能已达到了超10亿颗的水平，还有光刻机等垄断技术，国内也不断传出着破冰的好消息，例如上海微电子的28nm光刻机，哈工大研发的EUV光源等等。

过去早已多次证明，中国从来不惧封锁，外界越是封锁，我们就会越强大，“两弹一星”如此，航天航空亦是如此，中国科学家连航母都造得出，何况是小小的芯片，日媒：地球仪成功了！