咱们国产光刻机的进展到底怎么样了呀？阿斯麦的总裁的态度就说明了一切。20年的时候呢，他就说即使给中国全套的图纸，你们也造不出来光刻机。然后到了22年1月的时候呢，他的发就变得委婉了起来。他说全世界的物理定律都是一样的，在中国没有理由造不出来光刻机。
令人没有想到的是今年的四月初，他突然开始攻击我们了。说中国自研的光科机会破坏全球产业链。那阿斯麦频频反转的原因究竟是什么呢？
说白了，就两个字，急了！阿斯麦说出破坏产业链这种话，就说明他觉得咱们的国产光科机已经取得了重大的一个进步了。甚至未来还可能威胁到它的地位。而巧合的就是在阿斯麦说这句话之前。咱们的国防七子哈工大刚刚突破了光刻机核心部件的技术。用电能转化等一字提线路，成功实现了DPP-EUV光源技术在国内的首次应用。
听不懂的也没有关系，咱们只需要知道，在这之前EUV光源技术一直是被阿斯迈尔和这个Lcceuv联盟垄断的。而现在，咱们也能做到了。再配合此前的这个高速超精密激光干涉仪和极子光源技术。那么就有可能实现这个七纳米工艺。这个也就意味着我国也满足生产EUV光刻机的需求了。咱们研发光刻机也并不是为了取代这个阿麦，那也不是为了破坏产业链。而是为了满足自身的一个需求。光是芯片咱们就受到了很多的限制制裁。现在还妄想我们在光刻机上止步不前。那这是不是痴人说梦呢？
虽然说一时半会儿还很难超越西方，但是只要我们努力，量变终于会变成质变的。一切都打不倒我们，未来我们也一定会打破老美的芯片封锁。中国科技也必将崛起，同意的朋友们点个赞吧！
平庸一生
刚有个文章说台湾人预计中国今年底量产28nm的深紫外duv光刻机，中芯国际有很多台湾工程师，上微如果生产岀了样机肯定是中芯国际去试产看机器的可行性，所以台湾人的消息有很大的可行性。